電子超純水一般工藝流程：
(水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))
典型工藝2:原水→預(yù)處理→反滲透→EDI→精密過(guò)濾→用水點(diǎn)
?預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象
?預(yù)處理－一級(jí)反滲透－加藥機(jī)（ PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過(guò)濾器－用水對(duì)象
?預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過(guò)濾器－用水對(duì)象
?預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5 μ m精密過(guò)濾器－用水對(duì)象
應(yīng)用場(chǎng)合：
?半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
?超純材料和超純化學(xué)試劑；
?實(shí)驗(yàn)室和中試車間
?汽車、家電表面拋光處理；
?其他高科技精微產(chǎn)品。
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